在線測(cè)量氧化鋯電流式高濃度氧分析儀

在線測(cè)量氧化鋯電流式高濃度氧分析儀

1. 測(cè)量原理
   氧化鋯陶瓷極限電流法：在高溫(約 700 ℃)氧化鋯電池兩側(cè)施加恒定電壓，氧離子遷移產(chǎn)生與 O? 濃度成正比的極限電流，無(wú)需參比氣，響應(yīng)快、壽命長(zhǎng)。
2. 測(cè)定規(guī)格
   表格

   復(fù)制

   型號(hào)	FG-IIUX	FG-IIU-100RS
   范圍	0–95 %O?	0–25 %O?
   顯示	00.00–100.00 %	00.00–25.00 %
   線性	±1 %FS	±1 %FS
   重復(fù)性	±1 %FS	±1 %FS
   90 %響應(yīng)	≤10 s（向高濃度階躍）	≤10 s
   漂移	≤±2 %FS/周	≤±2 %FS/周
   模擬輸出	4–20 mA DC（對(duì)應(yīng) 0–100 %）	4–20 mA DC（對(duì)應(yīng) 0–25 %）
   報(bào)警	2 點(diǎn)無(wú)源觸點(diǎn)	2 點(diǎn)無(wú)源觸點(diǎn)

3. 氣體接口
   樣氣注入式；入口壓力 0.01–0.05 MPa；溫度 ≤80 ℃；接頭 Rc 1/4；推薦流量 0.2–1 L/min（可選針閥+浮子流量計(jì)）。
4. 使用條件
   環(huán)境溫度 0–50 ℃；濕度 <90 %RH；預(yù)熱 20 min；電源 AC100 V±10 V 50/60 Hz；功耗 ≈30 VA；安裝方式：平面/壁掛或儀表盤嵌入。
5. 典型應(yīng)用
• PSA 制氧機(jī)、氧氣富集裝置出口濃度監(jiān)視（FG-IIUX 0-95 %）
• 醫(yī)院合成空氣、培養(yǎng)箱、空分裝置（FG-IIU-100RS 0-25 %）
• 半導(dǎo)體、熱處理爐等高純氧或富氧環(huán)境在線監(jiān)測(cè)。
6. 校準(zhǔn)與維護(hù)
   常溫空氣單點(diǎn)校準(zhǔn)即可；若需更高精度，可用 2 點(diǎn)法（空氣+純氧）或標(biāo)準(zhǔn)混合氣；氧化鋯芯片壽命通常 >5 年，需定期檢查樣氣過(guò)濾器和流量。

1. 測(cè)量原理
   氧化鋯陶瓷極限電流法：在高溫(約 700 ℃)氧化鋯電池兩側(cè)施加恒定電壓，氧離子遷移產(chǎn)生與 O? 濃度成正比的極限電流，無(wú)需參比氣，響應(yīng)快、壽命長(zhǎng)

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2. 測(cè)定規(guī)格
   表格

   復(fù)制

   型號(hào)	FG-IIUX	FG-IIU-100RS
   范圍	0–95 %O?	0–25 %O?
   顯示	00.00–100.00 %	00.00–25.00 %
   線性	±1 %FS	±1 %FS
   重復(fù)性	±1 %FS	±1 %FS
   90 %響應(yīng)	≤10 s（向高濃度階躍）	≤10 s
   漂移	≤±2 %FS/周	≤±2 %FS/周
   模擬輸出	4–20 mA DC（對(duì)應(yīng) 0–100 %）	4–20 mA DC（對(duì)應(yīng) 0–25 %）
   報(bào)警	2 點(diǎn)無(wú)源觸點(diǎn)	2 點(diǎn)無(wú)源觸點(diǎn)

3. 氣體接口
   樣氣注入式；入口壓力 0.01–0.05 MPa；溫度 ≤80 ℃；接頭 Rc 1/4；推薦流量 0.2–1 L/min（可選針閥+浮子流量計(jì)）

   。
4. 使用條件
   環(huán)境溫度 0–50 ℃；濕度 <90 %RH；預(yù)熱 20 min；電源 AC100 V±10 V 50/60 Hz；功耗 ≈30 VA；安裝方式：平面/壁掛或儀表盤嵌入

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5. 典型應(yīng)用
• PSA 制氧機(jī)、氧氣富集裝置出口濃度監(jiān)視（FG-IIUX 0-95 %）
• 醫(yī)院合成空氣、培養(yǎng)箱、空分裝置（FG-IIU-100RS 0-25 %）
• 半導(dǎo)體、熱處理爐等高純氧或富氧環(huán)境在線監(jiān)測(cè)

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6. 校準(zhǔn)與維護(hù)
   常溫空氣單點(diǎn)校準(zhǔn)即可；若需更高精度，可用 2 點(diǎn)法（空氣+純氧）或標(biāo)準(zhǔn)混合氣；氧化鋯芯片壽命通常 >5 年，需定期檢查樣氣過(guò)濾器和流量

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